我們一說到
等離子清洗機，大家首先會想到技術比較成熟的設備，主要分為電容耦合設備(CCP)和電感耦合設備(ICP)，而微波設備相對比較少見。但隨著近年來國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)和新材料等領域的迅猛發(fā)展，微波等離子體表面處理技術也越來越受到重視。
工業(yè)應用的微波清洗機一般都屬于表面波型，其工作模式是通過輻射微波電磁場直接將氣體擊穿實現(xiàn)放電，一般要求放電氣壓高，因為沒有離子的加速作用，其電子密度較高，對于有機物的去除和材料表面活化的效率是比較高的。
下面的進入正題，等離子清洗機與超聲波清洗機的主要區(qū)別到底在哪里呢？
1、主要區(qū)別等離子清洗是干式清洗，超聲波清洗是濕法清洗，在經(jīng)過等離子清洗以后，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。
2、等離子清洗在完成清洗去污的同時，還能改變材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能，改善膜的附著力等，這在許多應用中都是非常重要的。
3、雖然該設備表面上比超聲波清洗機更加智能化，但是還有很多缺點需要提示，比如放電氣壓高帶來的問題是等離子體局域化比較嚴重，縱深清洗比較差，不利于多層面的大尺度的清洗處理，而且微波電磁場對電子元器件多少會有一定電磁輻射作用，有可能會造成電子元器件的擊穿損傷，最后就是設備造價高，維修保養(yǎng)不是很方便。
